芯片制造現(xiàn)在是許多國(guó)家難以逾越的鴻溝，其中不光是缺少光刻機(jī)等核心設(shè)備，光刻膠也是重要的一環(huán)。

因此，國(guó)內(nèi)不少公司都在傾力推動(dòng)光刻膠技術(shù)的研發(fā)，希望能解決目前幾乎被日美企業(yè)壟斷的局面。

近日，國(guó)內(nèi)公司晶瑞電材在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，公司光刻膠產(chǎn)品達(dá)到國(guó)際中高級(jí)水準(zhǔn)，在國(guó)內(nèi)具有悠久聲譽(yù)，穩(wěn)定生產(chǎn)光刻膠近三十多年，是國(guó)內(nèi)最早規(guī)模量產(chǎn)光刻膠的企業(yè)之一。

光刻膠是國(guó)際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一，高端產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)主要由日系JSR、信越化學(xué)、東京應(yīng)化等少數(shù)公司所壟斷。

晶瑞電材稱，公司承擔(dān)并完成了國(guó)家02專項(xiàng)“i線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目。公司為我國(guó)歷史最悠久、供應(yīng)量最大的光刻膠生產(chǎn)企業(yè)之一，產(chǎn)品序列齊全，產(chǎn)業(yè)化規(guī)模、盈利能力均處于行業(yè)領(lǐng)先水平。

其中g(shù)/i線光刻膠已向中芯國(guó)際、合肥長(zhǎng)鑫等知名大尺寸半導(dǎo)體廠商供貨，KrF（248nm深紫外）光刻膠完成中試，目前已進(jìn)入客戶測(cè)試階段，測(cè)試通過后即可進(jìn)入量產(chǎn)階段。

ArF高端光刻膠研發(fā)工作已正式啟動(dòng)，旨在研發(fā)滿足90-28nm芯片制程的ArF（193nm）光刻膠，滿足當(dāng)前集成電路產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵材料市場(chǎng)需求。