Intel EUV極紫外光刻設(shè)備進(jìn)廠(chǎng):沖刺“4nm”工藝

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位于愛(ài)爾蘭萊克斯利普(Leixlip)、投資70億美元的Intel Fab 34晶圓廠(chǎng)迎來(lái)重要時(shí)刻:一臺(tái)光刻膠顯影設(shè)備(lithography resist track)緩緩進(jìn)入工廠(chǎng),這也是該廠(chǎng)的第一臺(tái)巨型芯片制造工具。

該設(shè)備來(lái)自Intel美國(guó)俄勒岡州工廠(chǎng),搭乘飛機(jī)越過(guò)大西洋,來(lái)到了愛(ài)爾蘭。

Intel EUV極紫外光刻設(shè)備進(jìn)廠(chǎng):沖刺“4nm”工藝-圖片1

這臺(tái)設(shè)備將與EUV極紫外掃描儀搭檔,首先為硅晶圓覆上精密的涂層,然后進(jìn)入EUV掃描儀,進(jìn)行曝光,接著晶圓回到光刻設(shè)備,再進(jìn)行一系列的高精密光顯影、清理操作。

一座典型的晶圓廠(chǎng)包含大約1200臺(tái)先進(jìn)制造設(shè)備,大部分價(jià)值都在百元美元級(jí)別。

Intel Fab 34晶圓廠(chǎng)2019年動(dòng)工建設(shè),計(jì)劃2023年正式投產(chǎn),將會(huì)把Intel在愛(ài)爾蘭的產(chǎn)能翻一番,并為未來(lái)生產(chǎn)Intel 4工藝鋪平道路——嚴(yán)格來(lái)說(shuō)是Intel 7nm,但是官方重新命名,認(rèn)為它可以媲美行業(yè)4nm水平。

Intel EUV極紫外光刻設(shè)備進(jìn)廠(chǎng):沖刺“4nm”工藝-圖片2

Intel EUV極紫外光刻設(shè)備進(jìn)廠(chǎng):沖刺“4nm”工藝

Alder Lake 12代酷睿、Raptor Lake 13代酷睿都是Intel 7工藝(10nm ESF),Meteor Lake 14代酷睿和代號(hào)Granite Rapids的下下代至強(qiáng)都將用上Intel 4工藝。

Intel EUV極紫外光刻設(shè)備進(jìn)廠(chǎng):沖刺“4nm”工藝-圖片3

官方透露,新工藝研發(fā)進(jìn)展順利,芯片測(cè)試已經(jīng)完美通過(guò),SRAM、邏輯單元、模擬單元都符合規(guī)范,去年第二季度還早早完成了Meteor Lake計(jì)算單元模塊的流片。

Intel現(xiàn)階段正在全球建設(shè)、升級(jí)晶圓廠(chǎng),除了愛(ài)爾蘭還有美國(guó)本土的亞利桑那州、新墨西哥州、俄勒岡州,以及馬來(lái)西亞,投資上百億美元,很快還會(huì)宣布在歐洲、美國(guó)的更多晶圓廠(chǎng)建設(shè)計(jì)劃。

Intel EUV極紫外光刻設(shè)備進(jìn)廠(chǎng):沖刺“4nm”工藝-圖片4

 
  • 本文由 米粒 發(fā)表于 2022年1月21日11:47:28
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