作為全球NAND閃存市場的一哥，三星在3D閃存上又要領(lǐng)先其他廠商了，日前在三星技術(shù)論壇上，三星公布了第八代V-NAND的細節(jié)，堆棧層數(shù)超過200層，容量可達1Tbit，512GB容量的厚度也只有0.8mm，可用于手機。

三星的V-NAND閃存現(xiàn)在演員發(fā)展到了第七代V-NAND V7，堆棧層數(shù)176層，TLC版核心容量512Gbit，而即將推出的V-NAND V8層數(shù)將超過200——三星沒提到具體多少層，但之前的報道中指出是228層，提升30%左右，存儲密度提升了40%左右。

V-NAND V8閃存的單顆核心容量也從之前的512Gbit翻倍到了1Tbit，同時性能也更強，IO接口速率從2Gbps提升到了2.4Gbps，性能更適配最新的PCIe 5.0標準。

得益于存儲容量更大. V-NAND V8閃存的厚度依然可以控制在合理水平，封裝512GB容量也不超過0.8mm，可以用于新一代智能手機。

在未來，三星的V-NAND閃存堆棧層數(shù)還會進一步提升，路線圖中的目標是超過500層，這被視為3D閃存的極限，不過三星還在想法突破，最終能制造1000層堆棧的3D閃存。