蘋果將為iPhone采用屏下Touch ID和Face ID的消息已經(jīng)不是第一次聽到了。最近，蘋果通過美國專利商標(biāo)局獲得了一項新專利，可以用于屏下Face ID和Touch ID未來有望能看到蘋果能發(fā)布沒有劉海屏的真全面屏。

專利文檔顯示，蘋果考慮將TouchID和Face ID深度集成到屏幕內(nèi)，

光學(xué)成像陣列位于屏幕后面，可定向接收通過屏幕傳來的光線，與屏幕發(fā)光的方向相反。

介紹中提到的光學(xué)成像陣列，適用于成像、感測或數(shù)據(jù)聚合等，包括但不限于環(huán)境光感測、近距、深度感應(yīng)、結(jié)構(gòu)光、光通信、生物特征成像（例如指紋成像、虹膜成像、面部識別等）。

這項專利意味著，屏幕可能會有一部分"通過不透明的背板定義的成像孔"，蘋果稱之為“光圈”。

為了能夠正常使用Touch ID和Face ID，這塊“光圈”區(qū)域的屏幕像素密度比其余部分要低一些。

還有一種可能，就是在使用Touch ID和Face ID時，這塊“光圈”區(qū)域的像素才會降低，在不使用時，像素密度和其它區(qū)域一致。

在這份14000字的專利報告中，蘋果還提及了此專利也可用于MacBook上。

不過，蘋果已經(jīng)擁有不少屏下Touch ID和Face ID識別專利，將來會采用哪一種尚未可知。

蘋果計劃于今年9月24日發(fā)布新iPhone，依然會采用劉海屏和Face ID單生物識別方案，短期內(nèi)是看不到同時采用Touch ID和Face ID識別方案的新機發(fā)布了，不過有消息稱iPhone SE 3 Plus可能會采用電源指紋識別方案。