在10nm節點Intel的進度比預期晚了多年，很大一個原因跟EUV光刻機有關，Intel之前一直認為EUV技術不成熟，所以他們在10nm節點使用了四重曝光工藝，量產難度大，導致10nm工藝延期。

現在Intel的態度變了，對EUV光刻工藝開始重視起來了，畢竟三星、臺積電的EUV工藝都量產幾年了，Intel也將在7nm節點全面使用EUV光刻工藝，只不過該工藝也跳票了，預計2023年才能量產。

在日前參加摩根大通的會議時，CEO基辛格表示，Intel將全面擁抱EUV光刻工藝，大家能夠看到Intel對EUV工藝進行多代重大改進，大家能看到晶體管級別的重大改進。

從Intel的表態來看，他們對EUV工藝很有信心，不同廠商手中EUV工藝的發揮情況也不同，Intel這番表態暗示他們會對EUV工藝做出重大改進，甚至能深入到晶體管級別的升級改良。